公司自主研制的新型X射线薄膜探测器XFD-100可以用在同步辐射X射线吸收精细结构谱(XAFS)光束线上,可与现有的XAFS测量系统集成,用于薄膜材料元素的X射线吸收谱测量。XFD-100提供了X射线荧光和全电子产额两种模式,可同时测量,在不同层次上研究薄膜材料中吸收原子的近邻结构。
XFD-100的特点
- 采用掠入射几何,为薄膜材料的测量而优化,更有效地利用光的辐照面积,且无需过滤片和Soller狭缝去除弹性散射对荧光谱的影响。
- 通过特有技术有效地去除来自薄膜单晶衬底(如硅片)的衍射信号污染。
- 探测器具有大的固体接受角,充分利用荧光信号,信噪比高。
- 由于采用气体探测器,动态范围高,没有半导体探测器固有的剂量饱和问题。
- 可在X射线荧光与全电子产额两种模式下同时测量X射线吸收谱。
- 样品室很方便与高温和通气气氛等测量条件集成,便于原位测量。
欣彧公司提供从产品定制化设计,系统集成到系统软件开发的服务。

